중국 초음파 반도체 분무기 제조업체 공장 공급업체
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초음파 반도체 코팅 장비
전자 부품과 칩의 표면은 일반적으로 회로와 노드로 덮여 있어 지형이 고르지 않습니다. 기존의 스프레이 방식으로는 이러한 표면에 균일한 코팅이 불가능하므로 초음파 스프레이 기술을 사용했습니다.
초음파 노즐은 고주파-주파수 음파를 기계적 에너지로 변환하여 작동하며, 이는 액체로 전달되어 정재파를 생성합니다. 액체가 노즐의 분무 표면에서 빠져나오면서... -
초음파 프로브 균질화기
주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적
정격 출력: 1.0kW/1.5kW
가공량 : 200~2000ml/unit/batch
장비 구성: 초음파 프로브+초음파 컨트롤러
장비 용도: 초음파 프로브 균질화기는 소량의 다양한 재료를 처리할 수 있습니다. -
초음파 나노재료 균질화기
주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적
정격 출력: 3.0kW
공정량 : 10~30L/개/배치
장비 구성 : 초음파 프로브 + 초음파 컨트롤러 + 소형 반응 탱크 + 대형 혼합 탱크 + 스탠드
장비 특징: 강력한 초음파 에너지 출력으로 분산이 어려운-물질을-나노미터 수준으로 분산시킬 수 있습니다. -
연속 초음파 처리 시스템
-주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적
-정격 전력: 12kW/20kW
-공정량: 200~1000L/개/배치
-장비 구성: 초음파 프로브+플로우 셀+방음 캐비닛+제어 캐비닛
-대상 응용 분야: 나노-분산 효과가 필요한 산업 생산 라인. -
휴대용 초음파처리기
- 주파수: 40kHz±0.5, 자동 추적
- 정격 출력: 0.3kW
- 공정량: 2~100ml/단위/배치
- 장비 구성: 초음파 프로브+초음파 컨트롤러
- 장비 용도: 휴대용 초음파 처리기는 소량의 다양한 재료를 처리할 수 있습니다. -
산업용 초음파 균질화기
- 주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적
- 정격 출력: 3.0kW/5.0kW
- 공정량: 50~200L/개/배치
- 장비 구성: 초음파 프로브+초음파 컨트롤러
- 대상 응용 분야: 산업용 초음파 균질화기는 액체 분산, 균질화, 추출, 유화 또는 혼합이 필요한 모든 산업에 사용됩니다. -
초음파 대마초 오일 유화제
-주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적-정격 전력: 3.0kW
-진폭: 80~100um
-공정량: 10~30L/개/배치
-장비 구성: 초음파 프로브+초음파 컨트롤러+소형 반응 탱크+대형 혼합 탱크+스탠드
-장비 특징: 강력한 초음파 에너지 출력으로 분산이 어려운-재료를-나노미터 수준으로 분산시킬 수 있습니다. -
초음파 단백질 추출기
- 주파수: 20kHz±0.5, 자동 추적
- 정격 출력: 3.0kW
- 공정량: 200L/단위/배치
- 장비 구성: 초음파 프로브+초음파 컨트롤러+반응조
- 표적 적용: 식물 추출 -
초음파 초본 추출기
오늘날 사회에는 허브 제품에 대한 수요가 엄청나지만 기존의 침지 및 고온 추출 방법은 비효율적일 뿐만 아니라 고온 처리 후 추출물의 품질도 크게 저하됩니다.-
초음파 약초 추출기는 저온 조건에서 초음파 진동에 의해 발생하는 충격력을 이용하여 약초 물질의 세포벽을 관통하여 유효성분을 추출하는 장치입니다. -
초음파 스프레이 코팅 시스템
초음파 노즐은 고주파-주파수 음파를 기계적 에너지로 변환하여 작동하며, 이는 액체로 전달되어 정재파를 생성합니다. 액체가 노즐의 분무 표면에서 빠져나오면서 균일한 마이크론- 크기의 물방울로 구성된 미세한 안개로 부서집니다.











